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Attendees participate in a ribbon-cutting ceremony to celebrate the completion of the facility (Bildquelle: Asahi Kasei) TOKYO – 26. August 2026 – Asahi Kasei hat am 20. August seine neue Beschichtungslinie für Hipore™ Nassprozess-Batterieseparatoren in Charlotte, North Carolina, feierlich eröffnet. Die Inbetriebnahme markiert einen wichtigen Meilenstein in der Umsetzung derRead More →

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Steigender Nachfrage nach fortschrittlichem Halbleiter-Packaging (Bildquelle: Asahi Kasei) TOKYO – 7. Juli 2026 – Asahi Kasei, ein diversifiziertes, weltweit tätiges Unternehmen, hat am 3. Juli an seinem Produktionsstandort in Tainan, Taiwan, eine neue Schneideanlage für den Trockenfilm-Photoresist (Dry Film Photoresist, DFR) SUNFORT™ in Betrieb genommen. Die kommerzielle Produktion soll nochRead More →